DT200
Vakuum / Reinraum Drehtische
782338:033.26
Apertur Drehtisch
HV, DUV / EUV, Reinraum ISO 5, n x 360°, Repro ± 0.001°, Speed 109°/s, Last 11 kg
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Optionen:
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Anwendungsfelder
Wafer-Handling, Reflexionsoberflächen-Inspektion, Durchlichtmessung, Wafer-Ausrichtung unter Reflexion, Inspektion transparenter Substrate, Bewertung von Glas-Wafern, Schichtdickenmessung, Defekterkennung in reflektierenden Schichten, Wafer-Inspektion, Maskenausrichtung, Linsenausrichtung, Strahlführung, Faser-Kopplung, optische Messtechnik, Wafer-Bonding, Die-Platzierung, Spiegelpositionierung, Spektroskopie-Ausrichtung, Photolithografie-Stages, Polarisationsrotation
| DT200 | -DC-R | -DC-R-W | ||||
| Verfahrweg | [deg] | n x 360 | n x 360 | |||
| Wiederholgenauigkeit unidirektional | [deg] | ± 0.002 | ± 0.001 | |||
| Wiederholgenauigkeit bidirektional | [deg] | ± 0.014 | ± 0.002 | |||
| Positioniergenauigkeit | [deg] | ± 0.017 | ± 0.003 | |||
| Exzentrizität | [µm] | ± 4 | ± 4 | |||
| Taumel | [µrad] | ± 25 | ± 25 | |||
| Positioniergeschwindigkeit | [deg/s] | 73 | 47 | |||
| Max. Geschwindigkeit | [deg/s] | 109 | 70 | |||
| Max. Beschleunigung | [deg/s2] | 1234 | 790 | |||
| Max. Last Fz | [N] | 110 | 110 | |||
| Max. Lastmoment Mx, My | [N] | 16.6 | 16.6 | |||
| Max. Lastmoment Mz | [N] | 5.6 | 8.8 | |||
| Länge | [mm] | 240 | 240 | |||
| Breite | [mm] | 200 | 200 | |||
| Höhe | [mm] | 40 | 40 | |||
| Drehteller Ø | [mm] | 170 | 170 | |||
| Apertur Ø | [mm] | 66 | 66 | |||
| Gewicht | [kg] | 4.0 | 4.0 | |||
| Lager | Dünnringlager | |||||
| Motor | DC-Motor | |||||
| Antrieb | Riemen, Harmonic Drive | |||||
| Feedback | Motorencoder, Winkelmesssystem (dual loop) | |||||
| Oberfläche | Aluminium eloxiert, Nickel | |||||
| Optionale Zusatzausstattung | Drehdurchführung elektrisch und pneumatisch, | |||||
| Varianten Reinraum | bis Reinraumklasse ISO 5 (höher auf Anfrage) | |||||
| Varianten Strahlung | EUV, DUV, UV (Röntgen und Gamma auf Anfrage) | |||||
| Varianten Magnetismus | - | |||||
| Varianten Vakuum | - | |||||
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