Vakuum / Reinraum Stages - Steinmeyer Mechatronik

Kundenspezifisch, UHV & EUV, magnetfrei

Wo Reinraum, Vakuum und EUV-Technologie zusammentreffen, stoßen Standard-Positioniersysteme schnell an physikalische Grenzen. Unsere Lösungen sind exakt für diese Extrembedingungen ausgelegt – von HV bis UHV, von UV bis EUV, von ISO 6 bis ISO 1, von magnetarm bis nicht-magnetisch. Jedes System wird material-, tribologie- und thermisch optimiert entwickelt, gefertigt und im Reinraum montiert.
Die folgenden Systeme lassen sich flexibel an Anwendung, Umgebung und Prozess anpassen. Alternativ entwickeln wir die Lösung speziell für Ihren Prozess & verfügbaren Bauraum.

Vakuum & Reinraumsysteme nach Produktkategorie

Lineartische >

Modulare Lineartische | UHV, EUV, ISO 4 - 6 | Hub bis 850 mm, Repro bis 0.002 µm, Last bis 20 kg

XYZ Stapel >

XYZ Kompaktsysteme | UHV, EUV, ISO 4 - 6 | Hub bis 50 mm, Repro bis 0.2 µm, Last bis 1 kg
XY Stages >

XY Kreuztische | UHV, EUV, ISO 4 - 6 | Hub bis 170 mm, Repro bis 0.003 µm, Last bis 30 kg

Mehrachssysteme >

XYZ-R+ Kombinationen | UHV, EUV, ISO 2 - 6 | komplexe Systeme z.B. harte Röntgenstrahlung, 1 Tesla, ...
Drehtische >

Rotationstische | UHV, EUV, ISO 4 - 6 | Hub unbegrenzt, Repro bis 0.0002°, Last bis 15 kg
Hubtische >

Vertikalachsen | UHV, EUV, ISO 4 - 6 | Hub bis 25 mm, Repro bis 0.3 µm, Last bis 40 kg