MT105
Vakuum / Reinraum Linearachsen und Lineartische
782325:142.24, 782325:141.24, 782325:040.24
Mikrotisch
UHV 10E-11 mbar, EUV, ISO 4 | Hub 30 – 50 mm | Repro 0.4 µm | Last 5 kg | Speed 7.5 - 75 mm/s
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Optional konfigurierbar:
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Anwendungsbereiche
Halbleitertechnik im Ultrahochvakuum und unter extrem ultravioletter Strahlung, Waferjustage, Kamerajustage, Sensorjustage, Bioprinting, Hochdurchsatz-Herstellung dreidimensionaler Zellsphäroide
Referenzen
Bioprinting-Based High-Throughput Fabrication of Three-Dimensional MCF-7 Human Breast Cancer Cellular Spheroids | Engineering (2015) Vol.1 Issue (2): 269-274 | https://www.engineering.org.cn/EN/10.15302/J-ENG-2015062
| MT105 | -30-2PM-L | -50-PM-L | -30-2-LM-L | -30-2XLM-L | -50-LM-L | -50-XLM-L | |
| Verfahrweg | [mm] | 30 | 50 | 30 | 30 | 50 | 50 |
| Wiederholgenauigkeit unidirektional | [µm] | ± 0.2 | ± 0.2 | ± 0.4 | ± 0.4 | ± 0.4 | ± 0.4 |
| Wiederholgenauigkeit bidirektional | [µm] | ± 0.3 | ± 0.3 | ± 0.5 | ± 0.5 | ± 0.5 | ± 0.5 |
| Positioniergeschwindigkeit | [mm/s] | 5 | 5 | 50 | 50 | 50 | 50 |
| Max. Geschwindigkeit | [mm/s] | 7.5 | 7.5 | 75 | 75 | 75 | 75 |
| Max. Last Fx | [N] | 20 | 10 | 48 | 85 | 24 | 48 |
| Max. Last Fy | [N] | 55 | 55 | 55 | 85 | 55 | 55 |
| Max. Last Fz | [N] | 55 | 55 | 55 | 55 | 55 | 55 |
| Länge | [mm] | 152 | |||||
| Breite | [mm] | 105 | |||||
| Höhe | [mm] | 25 | |||||
| Schmierung flüssig | [mbar] | bis 10-8 | |||||
| Schmierung trocken | [mbar] | bis 10-11 | |||||
| Max. Ausheiztemperatur | [°C] | 120 | |||||
| Motor | Piezo Motor | Piezo Motor | Nanomotion | Nanomotion | Nanomotion | Nanomotion | |
| Lager | Kreuzrollenlager Edelstahl, Hybrid, optional Vollkeramik | ||||||
| Feedback | Linearmesssystem | ||||||
| Auflösung Messsystem | 0.1 µm, optional 0.005 µm | ||||||
| Optional features | Ausführung mit bis zu zwei unterschiedlichen Motoren zur Bewegung hoher Lasten, kundenspezifische fluorfreie / PFAS-freie UHV-Schmierung, Adapter, Bohrungsraster, Kabel / Stecker | ||||||
| Reinraum Varianten | bis Reinraumklasse ISO 4 (höher auf Anfrage) | ||||||
| Beam variants | UV, DUV, EUV (Röntgen, Gamma auf Anfrage) | ||||||
| Varianten Magnetismus | magnetisch, magnetarm, magnetfrei | ||||||
| Varianten Vakuum | alle Bereiche bis 10E-11 mbar HV / UHV | ||||||
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