XY-Rz Positioniersystem für die Inspektion von M2 / 6" Wafern (Reinraum ISO 6) | XY Linearmotor, Linearmessystem | Phi AC-Servo, Harmonic Drive | Hub 170 x 170 mm x 360°
Inspektion und Mikroskopie

782460:001.26.oem

Präzise Wafer-Positionierung mit Vakuumchuck

Das Positioniersystem bewegt den Wafer über eine XY-Plattform mit einem KT305-EDLM-Lineartisch und einer darauf montierten Dreheinheit (Phi-Achse). Der Wafer wird mit einem Vakuumchuck fixiert und durch ein Lichtschrankensystem an den Kanten ausgerichtet. Anschließend erfolgt die Laserstrukturierung und Vermessung.

Ideal für schnelle, automatisierte Prozesse mit einem Alignment unter 1 Sekunde pro Ablauf

Zwei Prozessvarianten für :
– Alignment in Bearbeitungsposition (kompakte Tische)
– Alignment außerhalb mit anschließendem Offset von ca. 180 mm für staubfreie Kamerapositionen

Hochpräzise mit ± 0,4 µm in XY und 0,005° in Phi

Kantenscan über Sensor mit 2 mm Messbereich, 4 Scans à 2 Sekunden

Gesamtzykluszeit für Ausrichtung & Transport: < 15 s/Wafer (M2 / 6")

Integrierter 3-Achs-GALIL-Controller mit Sensorauswertung, Fehlerkorrektur und Achssteuerung

Optionen:

Alternative Lineartische und Dreheinheiten verfügbar
Konfiguration für Reinraumanwendungen (bis ISO-Klasse 6 oder besser)
Integration zusätzlicher Sensorik oder Kamerasysteme
Anpassbare Software für kundenspezifische Ausrichtalgorithmen
Optionale Schutzabdeckungen und Vakuumkomponenten

Individuelle Erweiterungen und Anpassungen

Die Engineering-Leistungen umfassen die Anpassung an verschiedene Wafergrößen, Sensortypen und Steuerungen. Das System kann für Reinraumanwendungen, alternative Controller oder spezielle Vakuumspannvorrichtungen konfiguriert werden.

Anwendungsfelder

Wafer- und Maskeninspektion, Inspektion von Solar-Wafern, Laserstrukturierung, Mikroskopie, Messtechnik, Qualitätssicherung, automatisierte Wafer-Ausrichtung, Halbleiterfertigung

Spezifikationen

782460:001.26		X	Y	Rz
Standard System		KT305-edlm	KT305-edlm	DE130-AC
Verfahrweg	[mm; deg]	170	170	n*360
Wiederholgenauigkeit unidirektional	[µm; deg]	± 0.4	± 0.4	0.005
Wiederholgenauigkeit bidirektional	[µm; deg]	± 0.5	± 0.5	0.007
Positioniergeschwindigkeit	[mm/s; deg/s]	50	50	180
Max. Geschwindigkeit	[mm/s; deg/s]	100	100	360
Max. Last	[N]		50	50
Länge × Breite × Höhe	[mm]	515 × 350 × 270
Max. Probengröße	[mm]	156 × 156 mm / 6" (M2)
Gewicht	[kg]	44
Motor		Dynamischer Linearmotor (eisenlos)	Dynamischer Linearmotor (eisenlos)	AC-Servo (AC)
Antrieb				Harmonic Drive
Feedback		Linearmesssystem	Linearmesssystem	Motor-Encoder
Auflösung Messsystem		optional bis zu 0,1 µm, 0,001 µm oder besser
Optionale Zusatzausstattung		Alternative Lineartische und Dreheinheiten verfügbar, Konfiguration für Reinraumanwendungen, Integration zusätzlicher Sensorik oder Kamerasysteme, anpassbare Software für kundenspezifische Ausrichtalgorithmen, optionale Schutzabdeckungen und Vakuumkomponenten, Adaptionsplatte, Chuck, Grundplatte (Granit / Aluminium), Gestell, Umhausung, angepasste Vibrationsentkopplung mittels dämpfender Gummizwischenlage oder pneumatischer Dämpfer, Sicherheitskonzept und -technik (Not-Aus, Türschalter, Lichtgitter, Laserscanner, STO, SLS)
Reinraum Varianten		bis Reinraum Klasse ISO 6 (höher auf Anfrage)
Beam variants		UV (DUV, EUV, Röntgen, Gamma auf Anfrage)
Varianten Magnetismus		magnetisch

Änderungen vorbehalten. Werte gelten für Einzelachsen mit unseren Controllern. Hier angegeben sind typische Werte für eine Standardausführung. Durch individuelle Anpassungen und bei genauer Kenntnis Ihrer Anwendung können deutlich verbesserte Werte erreicht werden.