KT106/170-SM
Vakuum / Reinraum Kreuztische

782445:002.26

XY-Proben-Stage

HV, UV / DUV, ISO 4, Hub 136 x 170 mm, Repro 0.6 µm, Last 5 kg, Speed 20 mm/s

Reinraum: Varianten bis Klasse ISO 4 (höher auf Anfrage)

Vakuum: alle Bereiche HV bis 10^-7 mbar

Schmierung flüssig bis 10^-7mbar

Max. Ausheiztemperatur: 100°C

Optimiertes Preis-Leistungs-Verhältnis

Optional konfigurierbar:

Kombinierbar mit Drehtischen (z.B. DT105)
Ausführung für Reinraum, Labor oder Produktion
Kundenspezifische Entwicklung mit 3D-Entwurf, Prototypen, Serienproduktion
Optional mit Controller FMC400/450

Anwendungsbereiche

Positionierung für die Halbleitertechnik, Mikro- oder Nanofabrikation, Massenspektrometer, Photoelektronenspektrometer, Laboranwendungen, Mikroskopie, Forschung im Hochvakuum, Probenvorbereitung, Probenscan, Probenhandling, Wafer Inspektion, Materialforschung, Materialanalyse

Spezifikationen

KT106/170		-136/-170-SM-HV
Verfahrweg	[mm]	136 x 170
Wiederholgenauigkeit unidirektional	[µm]	± 0.6
Wiederholgenauigkeit bidirektional	[µm]	± 0.9
Positioniergeschwindigkeit	[mm/s]	10
Max. Geschwindigkeit	[mm/s]	20
Max. Last Fx	[N]	49
Max. Last Fy	[N]	49
Max. Last Fz	[N]	79
Länge	[mm]	310
Breite	[mm]	310
Höhe	[mm]	75
Gewicht	[kg]	4.5
Schmierung flüssig	[mbar]	bis 10-7
Max. Ausheiztemperatur	[deg]	100
Motor		Schrittmotor
Spindel Typ		1214.532/2.8.203.250BR T5P / 181180
Spindel Steigung		2
Führung		Kreuzrolle Edelstahl, hybrid, optional Vollkeramik
Feedback		Open Loop
Optionale Zusatzausstattung		Wahlweise mit hochauflösendem Messsystem, Bremse, kundenspezifsche flourfreie / PFAS-freie UHV-Schmierung, Adapter, Bohrungsraster, Kabel / Stecker
Varianten Reinraum		bis Reinraum Klasse ISO 4 (höher auf Anfrage)
Varianten Strahlung		UV, DUV (EUV, Röntgen, Gamma auf Anfrage)
Varianten Magnetismus		magnetisch
Varianten Vakuum		alle Bereiche bis 10E-7 mbar HV

Änderungen vorbehalten. Werte gelten für Einzelachsen mit unseren Controllern. Hier angegeben sind typische Werte für eine Standardausführung. Durch individuelle Anpassungen und bei genauer Kenntnis Ihrer Anwendung können deutlich verbesserte Werte erreicht werden.