EUV-Polarisationsfilter für die Miniaturisierung in der Halbleiter-Lithografie | Positioniersystem zur Wafer-Belichtung in trockener, sauerstofffreier Reinstickstoff-Atmosphäre
Serienbaugruppen

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Yield-Maximierung im kleinsten Bauraum

Dieses hochpräzise Positioniersystem ist speziell als ergänzender Polarisationsfilter für die Miniaturisierung und Automatisierung in der EUV-Lithografie entwickelt worden. Dieser maximiert die Belichtungsqualität als auch den Yield eines vorhandenen Wafer-Steppers unter stark begrenztem Bauraum von ca. 120 x 180 x 31 mm. Dazu werden drei, unabhängig voneinander positionierfähige Filter im Strahlengang der optischen Anlage verschoben.

Es kann für hochauflösende Prozesse unter extremen Umweltbedingungen eingesetzt werden, wie EUV und eine trockene sowie sauerstofffreie Reinstickstoff-Atmosphäre.

 

Optimierung der Genauigkeit in extremen Umgebungen

  • Ideal für die Miniaturisierung in der automatisierten EUV-Lithografie
  • Maximierung des Yield sowie der Auflösung von vorhandenen Wafer-Stepper-Systemen auf kleinstem Raum (ca. 120 x 180 x 31 mm)
  • Genauigkeiten bis zu 1.5 µm unter extremsten Umweltbedingungen: EUV, trockene, sauerstofffreie Reinstickstoff-Atmosphäre
  • Wartungsfreier und flexibler 24/7 Betrieb über viele 1.000 Stell-Zyklen, verteilt über 10 Jahre

Optional erweiterbar:

  • Verschiedene Verfahrwege
  • Auf die Anwendung angepasste Materialwahl und Vakuumschmierung
  • Individuelle Lösungen für die Integration in die kundenspezifische Gesamtanwendung
  • Ausführung für Reinraum ISO 14644-1 (bis Klasse 1 auf Anfrage)

Individuelle Erweiterungen und Anpassungen

Die Engineering-Leistungen umfassen die Anpassung der Systeme an Ihre Struktur und die gewünschten Steuerungen. Darüber hinaus entwickeln wir Prototypen und passen die Systeme gerne an die Umgebungsanforderungen Ihrer Anwendung an, z.B. Partikelemission, Strahlung, Temperatur, Präzisions-Sonderteilefertigung, Arbeitshöhe, Kollisionsschutz, Sicherheitskonzept, Kompensationsfaktor und -filter, Sensorhalterung, Bremse, Entkopplung, Sonderschmierung, Sonderfarben, Halter, Adapter, Sondermotoren mit Pharmazulassung, Umfangreiche Dokumentationen, Testprotokoll, Lebensdauertests

 

Anwendungsfelder

Miniaturisierung und Automatisierung in der Standard-, Elektronenstrahl- und EUV-Lithografie z.B. Wafer, Chips, Die, Pins, Bonding, Leiterplatten, Solarzellen, Solarpanels, polarisationsempfindliche Photosensoren sowie Microstructuring, Filtereinstellung, Messung der Polarisation des einfallenden Lichts

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X1

X2

X3

Verfahrweg

[mm; deg]

76

76

76

Wiederholgenauigkeit unidirektional

[µm; deg]

± 1.5

± 1.5

± 1.5

Wiederholgenauigkeit bidirektional

[µm; deg]

± 5.5

± 5.5

± 5.5

Positioniergeschwindigkeit

[mm/s]

25

25

25

Max. Last

[N]

0.05

0.05

0.05

Motor

 

DC-Motor

DC-Motor

DC-Motor

Antrieb

 

Gleitgewindetrieb

Gleitgewindetrieb

Gleitgewindetrieb

Feedback

Motor-Encoder

Motor-Encoder

Motor-Encoder

 

Änderungen vorbehalten. Werte gelten für Einzelachsen mit unseren Controllern. Hier angegeben sind typische Werte für eine Standardausführung. Durch individuelle Anpassungen und bei genauer Kenntnis Ihrer Anwendung können deutlich verbesserte Werte erreicht werden.
    1. Angepasstes System für Ihr Gesamtkonzept



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Dipl.-Ing. Elger Matthes
Tel.: +49 (0) 351 88585-0
elger.matthes(at)steinmeyer.com