Optische & aktive Ausrichtung (optical & active alignment)
Klassische Positioniersysteme bewegen sich bekanntermaßen in X-, Y- und Z- Richtung mit einem Antrieb pro Achse. Wenn es darum geht, noch mehr Freiheitsgrade auf engstem Bauraum mit kleinen Verfahrwegen hochgenau zu verstellen, führt meist kein Weg an parallelkinematischen Konzepten vorbei.
Wir entwickeln für Ihre Anwendung maßgeschneiderte parallelkinematische Positioniersysteme für die aktive Ausrichtung und Montage von Optiken z.B. Justage, Montage und Positionierung von Linsen in Kameras, CCD-Sensoren, Faser-Positionierung, Ausrichtung von Siliziumphotonik-Strukturen zum Wafer Test, MEMS-Prober und viele weitere Montage- und Inspektionsaufgaben unter anspruchsvollen Umgebungsbedingungen in hochkompakter Ausführung mit Submikrometer-Präzision.
EUV know-howMaterialauswahl, Nanometer-Beschichtung, angepasste Schmierstoffe / Schmierstoffreiheit, Reinheit | bis 10 Mio. ZyklenLuftlagerung, Lebensdauertests, integrierte Wartungskonzepte / Wartungsfreiheit | 5 NanometerUnd noch höhere Präzision für sämtliche XYZ-Rx-Ry-Rz Bewegungen
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Individuelle Anpassung und Entwicklung Ihrer Innovaiton
- Optimale Positionierlösung für Ihre Anwendung mit einem schnellen, kostenfreien 3D-Entwurf
- Design von Funktionsmustern, Prototypen bis zur Serie
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