Drei-Achs-System zum Positionieren von Belichtungsmasken

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Hochpräzise Positionierung in der Halbleitertechnik

Das Maskensystem erlaubt die Feinjustierung und exakte Ausrichtung von Belichtungsmasken in der Halbleiter-Lithographie. Die XY-Theta-Verstellung verfügt über drei Linearachsen (zwei vertikale und eine horizontale) und ist parallelkinematisch aufgebaut. Die beiden vertikalen Achsen erzeugen sowohl Vertikalhub (gleiche Bewegung) als auch Drehung (gegensinnige Bewegung). Die parallele Anordnung der drei Antriebe ermöglicht eine Beweglichkeit in drei Freiheitsgraden, eine mechanische Überbestimmung ist damit ausgeschlossen.

Spezielle Materialien für den Einsatz in anspruchsvollen Umgebungen

Das Maskensystem wurde speziell für die Anwendung unter ultravioletter Strahlung und in ultra-trockener Stickstoffatmosphäre entwickelt. Diese besonderen Umgebungsbedingungen erfordern spezielle Materialien und Schmiermittel. So sind zur Minimierung der Streustrahlung alle Strukturteile mit einer Bilathal-Beschichtung versehen, die die ultraviolette Strahlung absorbiert. Zum Einsatz kommt außerdem ein hochspezialisiertes Schmiermittel auf Basis von Perfluorpolyether. Das PFPE-Öl weist auch unter ultravioletter Strahlung eine ausgezeichnete chemische Stabilität sowie eine äußerst geringe Ausgasrate auf. Es ist darüber hinaus thermisch stabil, nicht entflammbar und unlöslich in Wasser, Säuren, Basen und den meisten organischen Lösemitteln.

Optimiertes Wartungskonzept

Zur Wartung kann das System seitlich aus der optischen Achse heraus in Service-Positionen gefahren werden. Ein magnetisch vorgespannter Schnellwechselmechanismus sorgt bei Bedarf für einen schnellen und einfachen Austausch der Maske mit nur wenigen Handgriffen. Genauso unkompliziert gestaltet sich die Wartung der Motoren und Initiatoren, die als Wechselbaugruppe ausgeführt sind.


Ansprechpartner Sonderbaugruppen

Dipl.-Ing. Elger Matthes

Tel.: +49 (0) 351 88585-0

elger.matthes(at)steinmeyer.com