LT300
Vakuum / Reinraum Linearachsen und Lineartische
782475:035.26, 782475:006.26
Präziser Hochlast Lineartisch
HV / UHV / EUV, 50 - 100 mm Verfahrweg, 0.5 µm Wiederholgenauigkeit, 10 kg Last
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Optional konfigurierbar:
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Stabilität im Nanometerbereich trotz hoher Lasten bis 10 kg
Der Lineartisch ist dafür ausgelegt unter extremen Bedingungen, wie im Hochvakuum und im Ultra-Hochvakuum, Lasten mit einer hohen Steifigkeit zu positionieren. Ausgestattet mit einer Piezozangenbremse, erreicht dieses Positioniersystem eine Stabilität im Nanometerbereich.
Anwendungsbereiche
Halbleitertechnik im Ultrahochvakuum und unter extrem ultravioletter Strahlung, Waferjustage, Wafer Inspektion, Kamerajustage, Sensorjustage, Inspektion von Kontakten, Ausrichten von Spiegeln, Probing, Vakuumkammern, Forschung, Beamline-Instrumentierung, Elektronikmontage und -inspektion, Hochpräzise Scananwendungen
LT300 | -50-SM | -50-SM-L | -100-SM | -100-SM-L | |
Verfahrweg | [mm] | 50 | 50 | 100 | 100 |
Wiederholgenauigkeit bidirektional | [µm] | ± 4 | ± 0.5 | ± 4 | ± 0.5 |
Positioniergeschwindigkeit | [mm/s] | 5 | 5 | 5 | 5 |
Max. Last Fx | [N] | 44 | 44 | 44 | 44 |
Max. Last Fy | [N] | 120 | 120 | 120 | 120 |
Max. Last Fz | [N] | 120 | 120 | 120 | 120 |
Länge | [mm] | 360 | 360 | 340 | 340 |
Breite | [mm] | 300 | 300 | 300 | 300 |
Höhe | [mm] | 65 | 65 | 60 | 60 |
Feedback | Open Loop | Linearmesssystem | Open Loop | Linearmesssystem | |
Vakuum | [mbar] | bis 10-11 HV/UHV/EUV | |||
Schmierung flüssig | [mbar] | bis 10-8 | |||
Schmierung trocken | [mbar] | bis 10-11 | |||
Max. Ausheiztemperatur | [deg] | 120 | |||
Magnetismus Varianten | magnetisch | ||||
Motor | Schrittmotor | ||||
Führung | Kreuzrolle Edelstahl, hybrid |
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