XY-Theta-Justage von EUV-Belichtungsmasken | Hochpräzises Positioniersystem für die Wafer-Belichtung in trockener Stickstoffatmosphäre
Serienbaugruppen

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µm-Justage für Microstructuring unter extremen Bedingungen

Dieses 3-Achs-Maskensystem ist speziell für die hochpräzise Justage von Belichtungsmasken für die EUV-Lithografie entwickelt. Dieses Positioniersystem verfügt über drei Linearachsen mit parallel kinematischen Aufbau: zwei in X und eine in Y. Die beiden vertikalen Achsen erzeugen sowohl Vertikalhub (gleiche Bewegung) als auch Drehung (gegensinnige Bewegung). Es ermöglicht somit eine hochpräzise lineare und rotatorische Positionierung der Masken im Nanometerbereich unter ultravioletter Strahlung sowie in ultra-trockener Stickstoffatmosphäre.

 

Hochpräzise EUV-Wafer-Belichtung

  • Ideal für die die hochauflösende und automatisierte EUV-Lithografie
  • Extrem feine XY-Theta-Ausrichtung von Belichtungsmasken mit bis zu 0.03 µm
  • Geeignet für EUV sowie ultra-trockene, sauerstofffreie Reinstickstoff-Atmosphäre
  • Minimierung der Streustrahlung durch ganzheitliches Konzept für Schmierung und Beschichtung
  • Flexibles, integriertes Wartungskonzept, wobei das System seitlich aus der optischen Achse heraus in gefahren wird

Optional erweiterbar:

  • Verschiedene Verfahrwege
  • Auf die Anwendung angepasste Materialwahl und Schmierung
  • Individuelle Lösungen für die Integration in die kundenspezifische Gesamtanwendung
  • Ausführung für Reinraum ISO 14644-1 (bis Klasse 1 auf Anfrage)

Ganzheitliches Konzept für Beschichtung und Schmierung

Diese besonderen Umgebungsbedingungen erfordern spezielle Materialien und Schmiermittel. So sind zur Minimierung der Streustrahlung alle Strukturteile mit einer speziellen optimierten Beschichtung versehen, die die ultraviolette Strahlung absorbiert. Zum Einsatz kommt außerdem ein hochspezialisiertes Schmiermittel, dass unter ultravioletter Strahlung eine ausgezeichnete chemische Stabilität sowie eine äußerst geringe Ausgasrate aufweist. Es ist darüber hinaus thermisch stabil, nicht entflammbar und unlöslich in Wasser, Säuren, Basen und den meisten organischen Lösemitteln.

 

Optimiertes Wartungskonzept

Zur Wartung kann das System seitlich aus der optischen Achse heraus in Service-Positionen gefahren werden. Ein magnetisch vorgespannter Schnellwechselmechanismus sorgt bei Bedarf für einen schnellen und einfachen Austausch der Maske mit nur wenigen Handgriffen. Genauso unkompliziert gestaltet sich die Wartung der Motoren und Initiatoren, die als Wechselbaugruppe ausgeführt sind.

 

Individuelle Erweiterungen und Anpassungen

Die Engineering-Leistungen umfassen die Anpassung der Systeme an Ihre Struktur und die gewünschten Steuerungen. Darüber hinaus entwickeln wir Prototypen und passen die Systeme gerne an die Umgebungsanforderungen Ihrer Anwendung an, z.B. Partikelemission, Strahlung, Temperatur, Präzisions-Sonderteilefertigung, Arbeitshöhe, Kollisionsschutz, Sicherheitskonzept, Kompensationsfaktor und -filter, Sensorhalterung, Bremse, Entkopplung, Sonderschmierung, Sonderfarben, Halter, Adapter, Sondermotoren mit Pharmazulassung, Umfangreiche Dokumentationen, Testprotokoll, Lebensdauertests

 

Anwendungsfelder

Hochpräzise Justage von Belichtungsmasken in der Standard-, Elektronenstrahl- und EUV-Lithografie z.B. Wafer, Chips, Die, Pins, Bonding, Leiterplatten, Solarzellen, Solarpanels, polarisationsempfindliche Photosensoren sowie Microstructuring

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Verfahrweg [µm; deg] 15050 ± 1.5

Wiederholgenauigkeit unidirektional

[µm; deg] ± 1.5± 2.5 ± 0.03

Wiederholgenauigkeit bidirektional

[µm; deg] ± 2.5± 3.5 ± 0.05

Positioniergeschwindigkeit

[mm/s; deg/s] 2525

Max. Last

[kg] 3.5
Motor  

DC-Motor

DC-Motor

DC-Motor
Anrieb  KugelgewindetriebKugelgewindetrieb Kugelgewindetrieb
Feedback

Motor-Encoder

Motor-Encoder

Motor-Encoder

 

Änderungen vorbehalten. Werte gelten für Einzelachsen mit unseren Controllern. Hier angegeben sind typische Werte für eine Standardausführung. Durch individuelle Anpassungen und bei genauer Kenntnis Ihrer Anwendung können deutlich verbesserte Werte erreicht werden.


    1. Angepasstes System für Ihr Gesamtkonzept



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Dipl.-Ing. Elger Matthes
Tel.: +49 (0) 351 88585-0
elger.matthes(at)steinmeyer.com