Doppel XYZ Wafer Positionierer für Scanner, Mikroskope und Wafer bis 12 inch / 300 mm (Reinraum ISO2) | Hub 720 x 720 x 100 mm
Inspektion und Mikroskopie

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Hochdurchsatz-Screening von Wafern bis 12"

Das Inspektionssystem mit Verfahrwegen bis 720 mm erlaubt die gleichzeitige hochdynamische Prüfung mehrerer 300 mm / 6" Wafer. Das komplett betriebsbereite Achssystem, bestehend aus den Achsen, der Granitbasis mit Portal, dem Kabelmanagement und dem Motion Controller ist kundenspezifisch konfigurierbar.

 

Automatisierte Inspektion im 3-Schicht-Betrieb

  • Ideal zur automatisierten Inspektion von Wafern mit:
    - je 2x X-Achsen für Scanner / Mikroskope bis 25 kg
    - je 2x Y-Achsen für Chucks bis 23 kg
  • Hochdynamische Fahrten bis max. 1000 mm/s bei Verfahrwegen bis 720 mm
  • Ausgelegt für den Einsatz im 3-Schicht-Betrieb bis Reinraum Klasse ISO 2
  • Wartungsarm durch den schnellen Systemaustausch auf der Granitstruktur

Optional erweiterbar:

  • Ausführung für Reinraum ISO 14644-1 (bis Klasse 1 auf Anfrage)
  • Anschlüsse für Absaugung und umlaufende Bandabdeckungen
  • Verfügbar auch als Einzelportal
  • Gebrauchsfertige Steuerung mit vorkonfigurierten Controller inkl. Beispielsoftware
  • Individuelle Lösungsfindung mit 3D-Entwurf für die Positionieraufgabe

Individuelle Erweiterungen und Anpassungen

Die Engineering-Leistungen umfassen die Anpassung der Systeme an Ihre Struktur und die gewünschten Steuerungen oder die ganz individuelle Lösungsfindung mit 3D-Entwurf für die anwendungsspezifische Positionieraufgabe.

Darüber hinaus entwickeln wir Prototypen und passen die Systeme gerne an die Umgebungsanforderungen Ihrer Anwendung an, z.B. Partikelemission, Strahlung, Temperatur, Präzisions-Sonderteilefertigung, Arbeitshöhe, Kollisionsschutz, Sicherheitskonzept, Kompensationsfaktor und -filter, Sensorhalterung, Bremse, Entkopplung, Sonderschmierung, Sonderfarben, Halter, Adapter, Sondermotoren mit Pharmazulassung, Umfangreiche Dokumentationen, Testprotokoll, Lebensdauertests

 

Anwendungsfelder

Inspektion von Wafer und Masken bis 12 inch / 300 mm, Interferometrie und Metrologie, Mikroskopie, Materialprüfung, Probecards und Leiterplatten, AOI, Qualitätssicherung, Mikroskopie großer Probe, Oberflächenprüfung

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X

Y

Z

Verwendetes Standardsystem PMT290-EDLM PMT290-EDLM

Verfahrweg

[mm; deg]

720 720 100

Wiederholgenauigkeit unidirektional

[µm; deg]

± 0.3 ± 0.3 ± 1.5

Wiederholgenauigkeit bidirektional

[µm; deg]

± 0.7 ± 0.7 ± 2.5

Positioniergeschwindigkeit

[mm/s; deg/s]

750 750 150
Max. Geschwindigkeit [mm/s; deg/s] 1500 1500 300

Max. Last

[N]

150 150 ± 200

Motor

 

Dynamischer Linearmotor (eisenlos)

 Dynamischer Linearmotor (eisenlos)

AC-Servo
Antrieb

 

 

 

Kugelgewindetrieb

Feedback

Linearmesssystem

Linearmesssystem

Motor-Encoder

Lange x Breite x Höhe[mm]1230 x 1200 x 1030

 

Änderungen vorbehalten. Werte gelten für Einzelachsen mit unseren Controllern. Hier angegeben sind typische Werte für eine Standardausführung. Durch individuelle Anpassungen und bei genauer Kenntnis Ihrer Anwendung können deutlich verbesserte Werte erreicht werden.


    1. Angepasstes System für Ihr Gesamtkonzept



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Dipl.-Ing. Elger Matthes

Tel.: +49 (0) 351 88585-0

elger.matthes(at)steinmeyer.com